国产溅镀设备上市 LED芯片效率大提升
2012-08-20 16:13:02 来源:中国半导体照明网 浏览次数:0
作为国产高端LED设备制造商的代表,北方微电子凭借其过硬的技术基础和本地化的服务优势,在LED产业的快速成长中正在取得越来越多的成绩。已掌握多种自主核心技术的北方微电子,仅获授权的发明专利就达400多项。
专项政策对于北方微电子的支持,仅仅局限在集成电路的设备领域。作为一个企业,不但要生存,更要谋求更好的可持续的发展。为此,北方微电子决定将PVD设备技术应用到LED领域的设备制造中。北方微电子丁培军总经理这样说,“我们平时使用的手机和平板电脑能够触摸,是因为表面覆盖着一层透明的金属电极,从而达到导电的作用。如今,LED光源也需要这样一些金属电极,如果有了这些金属透明电极,出光效率会高很多。北方微电子ITO透明导电膜PVD设备的开发,会使未来的LED光源芯片亮度更高,寿命也更长。”
提升出光效率、降低生产消耗是LED芯片生产线关注焦点,在国产ICP刻蚀设备获得巨大市场成功之后,基于集成电路领域先进PVD技术的积累,北方微电子于2012年推出iTopsITOsputter-透明电极溅射沉积设备,为芯片生产线提供高质量的ITO薄膜沉积工艺,提升LED芯片出光效率。
与传统蒸镀工艺相比,北方微电子的磁控溅射设备可以将芯片的输出光效提升5%-10%,靶材的高利用率更可大幅降低生产中的材料消耗。
该系统兼容2-4英寸蓝宝石、碳化硅等多种材料基片,具备极强的技术扩展能力。设备舒适便捷的人机交互界面,优异的可靠性、稳定性与重复性完全满足LED芯片制造商对高质量ITO薄膜的生产需求。
该设备目前已完成了多家主流生产线的工艺验证,随着ICP刻蚀机、ITO溅镀机等众多国产高端工艺设备市场应用程度的提升,我国LED外延片、芯片制造产业将会在产品性能、生产成本等方面获得更多收益。