华南理工彭俊彪教授:用Ln-IZO攻破国外IGZO技术壁垒
2016-06-30 15:51:22 来源: 浏览次数:0
不管是LCD,还是OELD,都与TFT技术有着密切的联系,所以TFT驱动技术是显示技术的基础。新一代显示正在往大尺寸、高分辨率、快速响应速度、高对比度、柔性和超薄方向发展,这就对TFT技术提出了更高的要求。目前,TFT有a-Si、Oxide和LTPS三种制备工艺流程,其中Oxide TFT作为新一代TFT技术,具有可大面积制备、抗弯折特性好、成本低、容易集成等优势,具有广阔的应用前景。
但是传统的IGZO材料体系为国外发明,国内不掌握专利,而且其迁移率偏低,稳定性有待提升。华南理工大学教授彭俊彪说:“我们在掺杂稀土的IZO材料体系方面取得了突破,开发了基于镧系稀土(Ln)的新型IZO靶材(Ln-IZO)配方。Ln-IZO TFT综合性能可以满足驱动AMOLED的要求。”
据了解,华南理工大学自主研发的Ln-IZO TFT技术,迁移率可达40cm2/Vs,功耗之低也可以与LTPS TFT相比拟。此外,华南理工大学在柔性AMOLED显示上取得较大进展,提高了使用寿命。
大尺寸OLED也一直是个难点。彭俊彪说,从印刷显示技术来看,有没有可能从TFT到OLED全部用印刷工艺来做?这是一个新的发展趋势,也是一个新的挑战,需要进行一些探索。其在OLED方面做过很多的尝试,早在2005年就采用印刷的方法做OLED,华南理工大学用的一些材料就可以实现高清的输入。
在OLED上用喷墨打印的技术,墨水非常关键,因为如果夹层式的结果有针孔存在,显示的性能、稳定性等就无法保证,所以把薄膜做均匀的工艺显得尤为重要。为了解决这个问题,彭俊彪认为,可以从三个方面进行努力,第一是从结构上调整发光材料,第二是控制好配置,第三是控制好基板界面。目前,其把像素做成条状结构,一方面提高了打印效果,另一方面提高了良品率。通过多方面的工艺调整以及衬底表面处理,华南理工大学现在可以做到160PPI。但是如果要加上TFT,AMOLED用喷墨打印的方法做,现在看起来还有些问题。彭俊彪说:“这与墨水的材料有关。我们现在的材料体系主要做的是蓝光,因为蓝光和红光虽然蒸镀材料很多,但能用在喷墨打印上还是一个挑战,所以在材料体系上还需要改进。”
信息来源:中国电子报 编辑:苟丽丽