华南理工彭俊彪教授：用Ln-IZO攻破国外IGZO技术壁垒

2016-06-30 15:51:22 来源： 浏览次数：0

不管是LCD，还是OELD，都与TFT技术有着密切的联系，所以TFT驱动技术是显示技术的基础。新一代显示正在往大尺寸、高分辨率、快速响应速度、高对比度、柔性和超薄方向发展，这就对TFT技术提出了更高的要求。目前，TFT有a-Si、Oxide和LTPS三种制备工艺流程，其中Oxide TFT作为新一代TFT技术，具有可大面积制备、抗弯折特性好、成本低、容易集成等优势，具有广阔的应用前景。

但是传统的IGZO材料体系为国外发明，国内不掌握专利，而且其迁移率偏低，稳定性有待提升。华南理工大学教授彭俊彪说：“我们在掺杂稀土的IZO材料体系方面取得了突破，开发了基于镧系稀土（Ln）的新型IZO靶材（Ln-IZO）配方。Ln-IZO TFT综合性能可以满足驱动AMOLED的要求。”

据了解，华南理工大学自主研发的Ln-IZO TFT技术，迁移率可达40cm2/Vs，功耗之低也可以与LTPS TFT相比拟。此外，华南理工大学在柔性AMOLED显示上取得较大进展，提高了使用寿命。

大尺寸OLED也一直是个难点。彭俊彪说，从印刷显示技术来看，有没有可能从TFT到OLED全部用印刷工艺来做？这是一个新的发展趋势，也是一个新的挑战，需要进行一些探索。其在OLED方面做过很多的尝试，早在2005年就采用印刷的方法做OLED，华南理工大学用的一些材料就可以实现高清的输入。

在OLED上用喷墨打印的技术，墨水非常关键，因为如果夹层式的结果有针孔存在，显示的性能、稳定性等就无法保证，所以把薄膜做均匀的工艺显得尤为重要。为了解决这个问题，彭俊彪认为，可以从三个方面进行努力，第一是从结构上调整发光材料，第二是控制好配置，第三是控制好基板界面。目前，其把像素做成条状结构，一方面提高了打印效果，另一方面提高了良品率。通过多方面的工艺调整以及衬底表面处理，华南理工大学现在可以做到160PPI。但是如果要加上TFT，AMOLED用喷墨打印的方法做，现在看起来还有些问题。彭俊彪说：“这与墨水的材料有关。我们现在的材料体系主要做的是蓝光，因为蓝光和红光虽然蒸镀材料很多，但能用在喷墨打印上还是一个挑战，所以在材料体系上还需要改进。”

信息来源：中国电子报　　　编辑：苟丽丽